核徑跡防偽標(biāo)簽介紹

    根據(jù)用戶要求的圖案通過(guò)成像技術(shù)采用原子能核反應(yīng)堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級(jí)微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬(wàn)個(gè)，微孔在平面上按統(tǒng)計(jì)規(guī)律分布，微孔斜度30-50度，孔道具有良好的透氣、透水性能。通過(guò)特殊工藝將薄膜與基材復(fù)合，再經(jīng)過(guò)印刷而制成客戶要求的防偽標(biāo)識(shí)。

    核徑跡防偽技術(shù)，清華大學(xué)核能技術(shù)設(shè)計(jì)研究院與廣州傾松數(shù)碼科技有限公司合作生產(chǎn)的核徑跡防偽標(biāo)識(shí)。 是根據(jù)用戶要求的圖案通過(guò)成像技術(shù)采用原子能核反應(yīng)堆輻照，在薄膜上形成圓柱狀微米級(jí)微孔，微孔密度每平方厘米40-200萬(wàn)個(gè)。 

    核徑跡防偽標(biāo)簽特點(diǎn)

    1、核徑跡膜的生產(chǎn)必須使用原子核反應(yīng)堆等國(guó)家?？卮笮秃嗽O(shè)施，國(guó)內(nèi)只有極少數(shù)幾個(gè)在國(guó)家控制下的核研究單位擁有這樣的設(shè)備，是任何個(gè)人和團(tuán)體不可能擁有的。目前國(guó)內(nèi)唯有清華大學(xué)核能技術(shù)設(shè)計(jì)研究院的核反應(yīng)堆具有生產(chǎn)核徑跡膜的能力。高度壟斷決定一般企業(yè)不可生產(chǎn)性。核徑跡防偽生產(chǎn)是占有獨(dú)性的 。核徑跡防偽標(biāo)識(shí)的生產(chǎn)，還需要核物理、化學(xué)、電子、機(jī)械、光學(xué)等多學(xué)科的共同參與才能完成。        
   
    2、核徑跡防偽標(biāo)簽圖案是由每平方厘米幾十萬(wàn)到幾百萬(wàn)個(gè)微米級(jí)微孔組成，具有“微觀設(shè)密宏觀顯示”的特點(diǎn)，使不可見的幾百萬(wàn)個(gè)像素集合“放大”成為可見的宏觀圖案。微孔密度、微孔斜度、孔徑及分布規(guī)律，形成了嚴(yán)格的密碼信號(hào)，是仿造者根本無(wú)法逾越的障礙。核徑跡防偽標(biāo)簽其特有的微孔分布規(guī)律，圓柱形微孔孔道具有的散射角，及其分布規(guī)律，使得防偽標(biāo)識(shí)在顯微鏡下可以清楚地識(shí)別出是否為核反應(yīng)堆加工，實(shí)現(xiàn)了專家識(shí)別和大眾識(shí)別相結(jié)合的防偽目的。防偽圖案是不可仿造的 。 

    3、核徑跡防偽產(chǎn)品安全評(píng)價(jià)報(bào)告，清華大學(xué)核能技術(shù)設(shè)計(jì)研究院生產(chǎn)的核徑跡防偽膜經(jīng)各級(jí)權(quán)威部門測(cè)試，符合國(guó)家“GB4792-84”放射衛(wèi)生防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)，放射水平為本底膜水平?？梢宰鳛槭称贰⑺幤返雀黝惍a(chǎn)品的包裝。上較廣，隱形文字、圖案多用于防偽技術(shù)。